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类别2——物料加工程序

2A 系统、装备及零件

(至于无声滚动轴承，参阅军需物品清单)

2A001 以下的抗磨轴承或轴承系统及其零件：

注意∶

亦须参阅项目2A101。 (2017年第42号法律公告)

注释：

(由2023年第85号法律公告废除)

(a) 具有制造商按照ISO 492公差第4级或第2级(或与该两级等效的国家标准)或更佳者而指明的所有公差，并兼具蒙纳合金或铍所制的‘环’及‘滚动元素’的滚珠轴承及实心滚柱轴承； (2001年第132号法律公告；2004年第65号法律公告；2021年第89号法律公告；2023年第85号法律公告)

注释：

项目2A001(a)不适用于锥型滚柱轴承。 (2011年第161号法律公告)

技术注释：

1. ‘环’——装有一条或多于一条滚道的径向滚动轴承的环形部分(ISO 5593:1997)。

2. ‘滚动元素’——在滚道之间滚动的滚珠或滚柱(ISO 5593:1997)。 (2021年第89号法律公告)

(b) (由2011年第161号法律公告废除)

(1) 通量密度2.0特斯拉或以上，屈服强度414兆帕斯卡以上的物料；

(2) 调节器的全电磁立体单极偏向设计；或

(3) 高温(开氏450度(摄氏177度)及以上)位置传感器；

2A101 具有按照ISO 492公差第2级(或ANSI/ABMA标准20公差级ABEC-9，或其他等效的国家标准)或更佳的标准而指明的所有公差的径向滚珠轴承(项目2A001指明者除外)，而该等轴承具以下所有特性∶

(a) 内环直径达12毫米至50毫米；

(b) 外环外直径达25毫米至100毫米； (2017年第42号法律公告)

(2013年第89号法律公告)

2A225 以下以抗液态锕系金属的物料制造的熔锅：

(a) 具有下列两项特性的熔锅：

(1) 容积在150立方厘米至8 000立方厘米之间；及

(2) 以下列任何物料或其组合制造或镀膜，而该物料或组合的整体杂质水平不超过2%(以重量计)： (2017年第42号法律公告)

(a) 氟化钙(CaF₂)；

(b) 锆酸钙(CaZrO₃)；

(d) 氧化铒(Er₂O₃)；

(e) 氧化铪(HfO₂)；

(f) 氧化镁(MgO)；

(g) 氮化铌-钛-钨合金(约50%Nb，30%Ti，20%W)；

(h) 氧化钇(Y₂O₃)；或

(i) 氧化锆(ZrO₂)；

(b) 具有下列两项特性的熔锅：

(1) 容积在50立方厘米至2 000立方厘米之间；及

(2) 以纯度以重量计达99.9%或以上的钽制造或衬底；

(1) 容积在50立方厘米至2 000立方厘米之间；

(2) 以纯度以重量计达98%或以上的钽制造或衬底；及

(3) 以碳化钽、氮化钽、硼化钽，或它们三者的任何组合所产生的组合物镀膜；

(2004年第65号法律公告)

2A226 具有下列所有特性的阀：

(a) ‘标称尺码’达5毫米或以上；

(b) 具真空封密膜盒；及

技术注释：

如阀的入口直径与出口直径大小不同，则项目2A226中的‘标称尺码’指最小的直径。

(2004年第65号法律公告)

2B 测试、检验及生产装备

技术注释：

1. 计算轨迹轴的总数时，并未计入次级平行轨迹轴(例如水平搪孔的w-轴，或中心线与主旋转轴平行的次级旋转轴)。旋转轴无需转动超过360°。旋转轴可由一线性装置(例如，螺杆或齿条-小齿轮组)驱动。

2. 就分类2B而言，可供同时调整而作“轮廓控制”的轴的数目，即在处理工件的工序中，该工件与工具之间进行同时及相关移动时所沿着或绕着的轴的数目。这不包括任何在机器中进行其他相对移动时所沿着或绕着的附加轴，例如∶

(a) 用于磨床上的磨轮整形器具系统；

(b) 为牢固不同的工件而设计的并行旋转轴；

3. 轴的命名须依照国际标准ISO 841(2001)，工业自动化系统和整合——机器的数值控制——协调系统与运动的命名。 (2017年第42号法律公告；2023年第85号法律公告)

4. 就项目2B001至2B009而言，“倾斜主轴”亦作旋转轴计算。

5. ‘指定“单向定位重复性”’可用于每个工具机型号，以替代个别机器测试，而该‘指定“单向定位重复性”’是按下列程序测定： (2023年第85号法律公告)

(a) 选定5部同属须评估的型号的机器；

(b) 按照ISO 230/2 (2014)量度线性轴的重复性(R↑、R↓)，并评估每部机器的每条轴的“单向定位重复性”；

(d) 鉴于类别2的清单述及每条线性轴，因此，‘指定“单向定位重复性”’-数值的数目，便将会等于线性轴的数目； (2023年第85号法律公告)

(e) 若某不受项目2B001(a)、2B001(b)及2B001(c)管制的机器型号的任何轴的‘指定“单向定位重复性”’，相等于或少于每一个工具机型号的指明“单向定位重复性”加上0.7微米，则须要求制造者每隔18个月，重新确认精度水平一次。 (2017年第42号法律公告；2023年第85号法律公告)

6. 就项目2B001(a)、2B001(b)及2B001(c)而言，ISO 230/2 (2014)或等效的国家标准所界定的工具机的“单向定位重复性”的测量误差，不得计算在内。 (2013年第89号法律公告；2017年第42号法律公告)

7. 就项目2B001(a)、2B001(b)及2B001(c)而言，轴的测量须按照ISO 230/2 (2014)第5.3.2段的测试程序进行。测试长度超过2米的轴，须在2米轴段上进行。测试长度超过4米的轴，须进行多重测试(例如长度超过4米而不超过8米的轴，须进行2次测试；长度超过8米而不超过12米的轴，须进行3次测试)，每一超过2米的测试轴段，须以相同间距，分布于轴的长度。测试轴段须沿整个轴的长度，作平均分隔，而任何多出的长度，则均等分于测试轴段的头段、之间及尾段。所有测试轴段的最小“单向定位重复性”数值，均须予报告。 (2017年第42号法律公告)

2B001 用以除去或切割金属、陶瓷或“复合物”的以下工具机及工具机的任何组合，而按照制造商的技术说明，该等工具机及组合，可装设电子装置作“数值控制”： (2017年第42号法律公告)

注释：

1. 项目2B001不管制限于制造齿轮的特别用途工具机。就该等工具机而言，参阅项目2B003。

2. 项目2B001不管制限于制造以下任何一项的特别用途工具机：

(a) 曲轴或凸轮轴；

(b) 工具或刀具；

(d) 宝石雕刻或刻面； (2001年第132号法律公告；2017年第42号法律公告)

(e) 假牙。 (2017年第42号法律公告)

3. 具有车削、铣削或磨削三种功能中最少两种的工具机(例如具铣削功能的车削机)，必须依据项目2B001(a)、(b)或(c)记项中每一适用者评估。 (2004年第65号法律公告)

4. 除具有车削、铣削或磨削功能外，另具有添加制造功能的工具机，必须依据项目2B001(a)、(b)或(c)记项中每一适用者评估。 (2023年第85号法律公告)

注意：

并参阅项目2B201。至于光学精修机，参阅项目2B002。 (2008年第254号法律公告)

(a) 具有2个或以上能同时调整作“轮廓控制”的轴，并兼具以下任何一项特性的车削工具机：

(1) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度小于1.0米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于)0.9微米；

(2) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度等于或大于1.0米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于)1.1微米；

注释：

1. 项目2B001(a)不包括具有下述所有特性的、为生产隐形眼镜而特别设计的车削机：

(a) 只限于使用眼科软件作局部数据输入的机器控制器；

(b) 没有真空卡盘。

2. 如符合以下条件，项目2B001(a)不管制仅供加工贯穿进给棒料的棒料机器(走心式车牀)——最大棒料直径等于或小于42毫米，及不能安装卡盘。棒料机器可具有钻孔或铣削功能，为直径小于42毫米的零件作机器加工。 (2021年第89号法律公告)

(b) 具有以下任何特性的铣削工具机：

(1) 能同时调整作“轮廓控制”，并具有以下任何一项特性的3个线性轴及1个旋转轴：

(a) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度小于1.0米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于)0.9微米；

(b) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度等于或大于1.0米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于)1.1微米； (2021年第89号法律公告)

(2) 具有5个或以上能同时调整而作“轮廓控制”的轴，而该等轴符合任何以下描述： (2001年第132号法律公告；2017年第42号法律公告)

注意：

(由2021年第89号法律公告废除)

(a) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度小于1米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于)0.9微米； (2021年第89号法律公告)

(b) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度不小于1米但小于4米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于) 1.4微米；

(d) (由2021年第89号法律公告废除)

技术注释：

(由2021年第89号法律公告废除)

(3) 沿一条或多于一条线性轴的钻模镗牀的“单向定位重复性”等于或小于(优于)1.1微米； (2017年第42号法律公告)

(4) 具有以下所有特性的横旋转刀(飞刀)机：

(a) 主轴间“位置偏摆”及“轴向移位”总读数小于(优于) 0.0004毫米；及

(b) 滑动的角位误差(偏位、间距和滚转)小于(优于) 2秒弧度，总读数大于300毫米移行； (2001年第132号法律公告)

(1) 具有以下所有特性：

(a) 沿一条或多于一条线性轴的“单向定位重复性”等于或小于(优于) 1.1微米； (2017年第42号法律公告)

(b) 具有3个或4个能同时调整而作“轮廓控制”的轴；或 (2001年第132号法律公告；2021年第89号法律公告)

(2) 具有5个或以上能同时调整而作“轮廓控制”的轴，而该等轴符合任何以下描述： (2017年第42号法律公告)

(a) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度小于1米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于) 1.1微米；

(b) 沿一条或多于一条线性轴(其移行长度不小于1米但小于4米)的“单向定位重复性”等于或小于(优于) 1.4微米；

注释：

项目2B001(c)不管制以下磨床：

1. 具有以下所有特性的圆柱形外部、内部及外部-内部磨床：

(a) 仅限于圆柱磨削；及

(b) 最大操作范围的外直径或长度仅限于150毫米。

2. 特别设计为工模磨床，但不具有z轴或w轴的机器，而其“单向定位重复性”小于(优于) 1.1微米。 (2006年第95号法律公告；2013年第89号法律公告；2017年第42号法律公告)

3. 平面磨床。 (2004年第65号法律公告)

(2004年第65号法律公告)

(d) 2个或以上旋转轴同动，供“轮廓控制”的非线切割型放电加工机(EDM)；

(e) 具有下列所有特性的切削金属、陶瓷或“复合物”的工具机：

(1) 藉下列方式切削物料者：

(a) 水或其他液体的喷射，包括使用研磨剂添加物者；

(b) 电子束；或

(2) 至少有2个或超过2个的旋转轴具有以下所有特性： (2011年第161号法律公告)

(a) 能同时调整作“轮廓控制”；及

(b) 定位“精度”小于(优于) 0.003°； (2001年第132号法律公告；2017年第42号法律公告)

(f) 深孔钻牀及经改装以用作深孔钻孔的车牀，而其最大钻孔深度超过5米； (2017年第42号法律公告)

2B002 具有以下所有特性的装备作选择性去除物料，以生产非圆球面光学表面的数值控制光学精修工具机：

(a) 精修形状至小于(优于) 1.0微米；

(b) 精修至粗糙度小于(优于) 100毫微米均方根值；

(d) 使用下述任何程序：

(1) ‘磁流动学精修程序’；

(2) ‘电流变流精修程序’；

(3) ‘高能粒子光束精修程序’；

(4) ‘充气膜工具精修程序’；

(5) ‘液体喷射精修程序’；

技术注释：

就项目2B002而言：

(a) ‘磁流动学精修程序’是一种使用研磨剂磁性液体的物料切削程序，而该液体的黏滞度是由磁场控制的；

(b) ‘电流变流精修程序’是一种使用研磨剂液体的切削程序，而该液体的黏滞度是由电场控制的；

(d) ‘充气膜工具精修程序’使用变形增压膜在细小的范围内接触工件；

(e) ‘液体喷射精修程序’利用流体去除物质。

(2008年第254号法律公告)

2B003 为刨削、精修、磨削或搪磨硬化(Rc=40或以上)正齿轮、螺旋及双螺旋齿轮而特别设计的具有以下所有特性的“数值控制”工具机：

(a) 齿节直径超过1 250毫米；

(b) 面宽度为齿节直径的15%或以上；

(2023年第85号法律公告)

2B004 具有以下所有项目的热“均压装置”，以及为其而特别设计的零件及配件： (2001年第132号法律公告)

注意：

并参阅项目2B104及2B204。

(a) 内具有热控制环境的封闭腔，及内径为406毫米或以上的腔室；及 (1999年第183号法律公告)

(b) 以下任何一项：

(1) 超过207兆帕斯卡的最大工作压力；

(2) 超过开氏1 773度(摄氏1 500度)的热控制环境；或

(3) 碳氢化合物浸渍及其所造成气态劣化产物除去设施；

技术注释：

腔室内部尺寸乃为腔室内可获致工作温度及工作压力而不包括装置者。该尺寸为压力室的内直径或隔热炉室的内直径两者的较小者，视乎两者中何者位于另一者之内而定。

注意：

关于特别设计的压模、铸模及工具，参阅项目1B003、9B009及军需物品清单项目ML18。 (2001年第132号法律公告)

2B005 为以项目2E003(f)之后的表中第1栏指明的程序，于该表中第2栏指明的基材上作无机物被复、镀膜及表面改装的沉积、加工处理及程序控制而特别设计的装备，以及为其特别设计的自动化处理、定位、操控及控制零件： (2021年第89号法律公告)

(a) 化学蒸镀(CVD)生产装备，并兼具下列两项特性者：

注意：

亦须参阅项目2B105。 (2021年第89号法律公告)

(1) 为下列任何一项而修改其加工处理者：

(a) 脉动式CVD；

(b) 控制成核热沉积(CNTD)；或 (2021年第89号法律公告)

(2) 下列任何一项：

(a) 包含高真空(等于或低于0.01帕斯卡)旋转密封；或

(b) 包含现场膜厚控制器；

(b) 离子植入生产装备，并具有5毫安或以上的离子束电流者；

(1) 可精确调节铸块馈送速率的液槽位“雷射器”控制系统；或

(2) 根据气相电离原子的发光原理以控制含两种或以上元素的镀膜沉积率而操作的电脑控制沉积率监控器； (2001年第132号法律公告)

(d) 等离子体熔射生产装备，并具有下列任何一项特性者：

(1) 在进行熔射程序前操作于能控制气压的真空室中，其真空度能降至0.01帕斯卡者(在等离子体枪喷口上方及距离300毫米内所测量的压力等于或低于10千帕斯卡)；或

(2) 包含现场膜厚控制器；

(e) 溅镀沉积生产装备，能达0.1毫安／平方毫米或以上的电流密度，而15微米／小时或以上的沉积率者；

(f) 阴极电弧沉积生产装备，并含电磁铁栅极，可调整控制阴极上的电弧点者；

(g) 离子镀膜生产装备，并能现场测量下列任何一项者： (2011年第161号法律公告)

(1) 基材上的膜厚及速率控制；或

(2) 光学特性；

注释：

项目2B005(a)、2B005(b)、2B005(e)、2B005(f)及2B005(g)不管制为切割而特别设计的化学蒸镀、阴极电弧沉积、溅镀沉积、离子镀膜或离子植入装备或工具机。

(2006年第95号法律公告)

2B006 以下的量度检查或测量系统、装备、位置回馈器及“电子组件”： (2006年第95号法律公告；2021年第89号法律公告)

(a) 符合以下说明的电脑控制或“数值控制”的坐标测量机(CMM)：按ISO(国际标准组织)标准10360-2 (2009)，在该机的操作范围内任何一点(即在轴的长度以内)，其三维(容量)长度测量的最大允许误差(E_0,MPE)相等于或小于(优于) 1.7+L╱1 000微米(L为测得的长度，单位为毫米)；

注意：

亦须参阅项目2B206。

技术注释：

在“所有补偿机制下”，制造商指明的坐标测量机的最准确配置(例如以下最佳的项目：探针、描画针的长度、运动参数、环境)的E_0,MPE相对于1.7+L╱1 000微米的界限。 (2011年第161号法律公告)

(b) 以下的直线移测量仪器或系统、直线位置回馈器及“电子组件”：

注释：

干涉仪及包含“雷射器”的光编码器测量系统，只在项目2B006(b)(3)及2B206(c)中指明。

(1) ‘测量范围’在0至0.2毫米范围内时，‘解析度’等于或小于(优于)0.2微米的‘非接触式测量系统’； (2025年第6号法律公告)

技术注释：

1. 就项目2B006(b)(1)而言，‘非接触式测量系统’是经设计以用于测量探针或被测量物体在移动时，两者沿着单一向量之间的距离。

2. 就项目2B006(b)(1)而言，‘测量范围’指最小与最大工作距离之间的距离。 (2023年第85号法律公告)

(2) 为工具机特别设计、整体“精度”小于(优于)(800 + (600 × L/1 000))毫微米(L为有效长度，单位为毫米)的直线位置回馈器；

(3) 具有以下所有特性的测量系统：

(a) 包含“雷射器”；

(b) 整个测量范围内的‘解析度’等于或小于(优于)0.200毫微米； (2023年第85号法律公告；2025年第6号法律公告)

(4) 为项目2B006(b)(3)指明的系统提供回馈功能而特别设计的“电子组件”； (2021年第89号法律公告)

技术注释：

就项目2B006(b)而言，‘解析度’是量度工具的最小增加量；而在数字仪器上，它是最低有效位。 (2025年第6号法律公告)

注释：

项目2B006(c)不管制例如自动准直仪等利用准直光(例如“雷射器”光)侦测镜子的角位移的光学仪器。 (2021年第89号法律公告)

(d) 藉测量光散射而测量表面粗糙度(包括表面瑕疵)的装备，而其灵敏度为0.5毫微米或更小(更佳)； (2021年第89号法律公告)

注释：

项目2B006包括能用作测量机器的机器工具(前提是该等工具符合或超过就其测量机器功能所指明的准则)，但项目2B001指明的除外。 (2011年第161号法律公告)

(2017年第42号法律公告)

2B007 具有以下任何特性的“机械人”及为其特别设计的控制器及“末端效应器”：

注意：

并参阅项目2B207。

(a) (由2021年第89号法律公告废除)

(b) 经特别设计以符合潜在爆炸性军品环境相关的国家安全标准；

注释：

项目2B007(b)不包括为喷漆间而特别设计的“机械人”。 (2008年第254号法律公告)

技术注释：

戈瑞(硅)一词指在无保护硅样品暴露于电离辐射时，该样品所吸收的能量(单位为焦耳╱公斤)。 (2023年第85号法律公告)

(d) 为在30 000米以上高度操作而特别设计；

2B008 以下为工具机而特别设计的“合成旋转台”及“倾斜主轴”： (2001年第132号法律公告；2021年第89号法律公告)

(a)-(b) (由2021年第89号法律公告废除)

注释：

(由2021年第89号法律公告废除)

(1) 为工具机设计作车削、铣削或磨削用途；

(2) 将2个旋转轴设计成能同时调整作“轮廓控制”； (2021年第89号法律公告)

(d) 具有以下所有特性的“倾斜主轴”：

(1) 为工具机设计作车削、铣削或磨削用途；

(2) 设计成能同时调整作“轮廓控制”； (2021年第89号法律公告)

(2008年第254号法律公告)

2B009 按照制造商的技术说明，可装设“数值控制”器或电脑控制器并具有以下所有特性的旋压成型机器和滚压成型机器：

注意：

并参阅项目2B109及2B209。

(a) 具有3个或多于3个能同时调整作“轮廓控制”的轴； (2013年第89号法律公告)

(b) 滚动力超过60千牛顿；

技术注释：

就项目2B009而言，结合旋压成型和滚压成型功能的机器视为滚压成型机器。

2B104 具有下列所有特性的“均压装置” (受项目2B004管制者除外)： (2006年第95号法律公告)

注意：

并参阅项目2B204。

(a) 最大工作压力相等于或大于69兆帕斯卡； (2006年第95号法律公告)

(b) 经设计以达致和维持开氏873度(摄氏600度)或以上的热控制环境的；及

2B105 经设计或改装用于增加碳-碳复合物密度的化学蒸镀(CVD)热炉(受项目2B005(a)管制者除外)；

(2001年第132号法律公告；2006年第95号法律公告；2023年第85号法律公告)

2B109 下列用于“生产” “导弹”的推进零件及装备(例如马达的壳体及级节间装置)的滚压成型机器(项目2B009所管制者除外)以及特别设计的零件： (2006年第95号法律公告；2021年第89号法律公告)

注意：

并参阅项目2B209。

(a) 具有下列所有特性的滚压成型机器：

(1) 已装设或(依照制造商的技术说明)可装设“数值控制”器或电脑控制器； (2023年第85号法律公告)

(2) 具有超过两个可被同时调整作“轮廓控制”的轴；

(b) 为项目2B009或2B109(a)所管制的滚压成型机器特别设计的零件； (2006年第95号法律公告)

注释：

(由2021年第89号法律公告废除)

技术注释：

就项目2B109而言，结合旋压成型及滚压成型功能的机器视为滚压成型机器。 (2001年第132号法律公告)

2B116 下列振动测试系统、装备及其零件：

(a) 使用回馈或闭合环路技术并包含数字控制器的振动测试系统，能在施加在‘光身檯面’量度的相等于或大于50千牛顿的力的同时，在20赫至2千赫之间以加速率相等于或大于10动力加速度均方根将某系统振动； (2008年第254号法律公告；2023年第85号法律公告)

(b) 与特别设计的振动测试软件结合的数字控制器，具有5千赫以上的‘实时控制频宽’，并经设计与项目2B116(a)所管制的振动测试系统一起使用； (2009年第226号法律公告)

技术注释∶

在项目2B116(b)中，‘实时控制频宽’一词指控制器能执行整个取样、处理数据及传输控制讯号的程序的最大传输率。 (2009年第226号法律公告；2011年第161号法律公告)

(d) 经设计为将某系统内的复式抖动器结合的支承结构测试部件及电子机组，能提供在‘光身檯面’测量的相等于或大于50千牛顿有效混合力，并能在项目2B116(a)所管制的振动系统中使用； (2006年第95号法律公告)

注释：

在项目2B116中，‘光身檯面’指没有固定附着物或配件的平坦檯面或表面。 (2008年第254号法律公告；2009年第226号法律公告)

2B117 经设计或改装以用于热解复合结构火箭喷嘴及再入运输器前端或增加其密度的装备及加工处理控制器(受项目2B004、2B005(a)、2B104或2B105管制者除外)；

(2001年第132号法律公告；2006年第95号法律公告)

2B119 以下的平衡机及相关装备：

注意：

亦须参阅项目2B219。

(a) 具有下列所有特性的平衡机：

(1) 不能平衡质量大于3千克的转子／组件；

(2) 能以高于每分钟12 500转的速度平衡转子／组件；

(3) 能在两个或多于两个翼面校正不平衡；及

(4) 能将每千克转子质量平衡至0.2克毫米的剩余特定不平衡；

注释：

项目2B119(a)不管制为牙科或其他医疗装备而设计或改装的平衡机。

(b) 为与受项目2B119(a)管制的机器同时使用而设计或改装的压力计头； (2006年第95号法律公告)

技术注释：

压力计头有时称为平衡监察仪表。

(2004年第65号法律公告)

2B120 具有下列所有特性的运行模拟装置或定速台：

(a) 两轴或多于两轴；

(b) 为加入能传输电力、讯号资讯或两者的滑环或积体非触式装置而设计或改装； (2009年第226号法律公告)

(1) (就单轴而言)具有下列两项特性：

(a) 旋转率能达至每秒400度或以上，或在每秒30度或以下；及

(b) 定速分解相等于或小于每秒6度，而精度相等于或小于每秒0.6度；

(2) 在最差情况下，定速稳定度相等于或优于(小于)平均数10度或以上的正或负0.05%；或

(3) 定位“精度”相等于或小于(优于) 5秒弧度； (2008年第254号法律公告；2023年第85号法律公告)

注释：

1. 项目2B120不包括为工具机或医疗装备而设计或改装的旋转台。至于对工具机旋转台的管制，参阅项目2B008。

2. 项目2B120指明的运行模拟装置或定速台须继续受管制，不论在该运行模拟装置或定速台出口时，有关滑环或积体非触式装置是否已安装于该运行模拟装置或定速台内。 (2009年第226号法律公告；2023年第85号法律公告)

(2004年第65号法律公告)

2B121 具有下列所有特性的定位台(能在任何轴上精确旋转定位的装备)，但受项目2B120管制者除外： (2006年第95号法律公告)

(a) 两轴或多于两轴；及

(b) 定位“精度”相等于或小于(优于) 5秒弧度； (2008年第254号法律公告；2023年第85号法律公告)

注释：

项目2B121不管制为工具机或医疗装备而设计或改装的旋转台。至于对工具机旋转台的管制，参阅项目2B008。

(2004年第65号法律公告)

2B122 能达致100克动力加速度以上的加速度，并为加入能传输电力、讯号资讯或两者的滑环或积体非触式装置而设计或改装的离心机；

注释：

项目2B122指明的离心机须继续受管制，不论在该离心机出口时，有关滑环或积体非触式装置是否已安装于该离心机内。 (2023年第85号法律公告)

(2009年第226号法律公告)

2B201 用于除去或切割金属、陶瓷或“复合物”的以下工具机及工具机的任何组合(项目2B001管制者除外)，而按照制造商的技术说明，该等工具机及组合，可装设电子装置，以同时“轮廓控制” 2条或多于2条轴： (2017年第42号法律公告)

技术注释：

按照ISO 230/2 (1988)或等效的国家标准进行测量后，根据以下程序所得的指定定位精度水平(如已提供予国家当局并获其接受)，可用于每个工具机型号，以代替个别机器测试。指定定位精度是按下列程序测定： (2023年第85号法律公告)

(a) 选定5部同属须评估的型号的机器；

(b) 按照ISO 230/2 (1988)量度线性轴的精度；

(d) 测定每条轴的平均精度值。该平均值成为有关型号的每条轴的指定定位精度(Âx、Ây、......)；

(e) 鉴于项目2B201述及每条线性轴，因此，指定定位精度值的数目，便将会等于线性轴的数目；

(f) 若某不受项目2B201(a)、2B201(b)或2B201(c)管制的工具机的任何轴有以下的指定定位精度(按照ISO 230/2 (1988))，则须要求制造者每隔18个月，重新确认精度水平一次 —— (2023年第85号法律公告)

(1) 就磨牀而言——等于或小于(优于) 6微米；或

(2) 就铣削及车削工具机而言——等于或小于(优于) 8微米。(2017年第42号法律公告)

(a) 具有以下任何特性的铣削工具机：

(1) 在“所有补偿机制下”，按ISO(国际标准组织)标准230/2 (1988)或等效的国家标准，沿任何线性轴的定位精度相等于或小于(优于) 6微米； (2004年第65号法律公告)

(2) 具有2个或以上轮廓旋转轴；

(3) 具有5个或以上能同时调整而作“轮廓控制”的轴； (2008年第254号法律公告)

注释：

项目2B201(a)不管制具有以下特性的铣床：

(a) X-轴动程超过2米；及

(b) 沿X-轴的全程定位精度大于(劣于) 30微米。 (2004年第65号法律公告；2006年第95号法律公告)

(b) 具有以下任何特性的磨削工具机：

(1) 在“所有补偿机制下”，按ISO(国际标准组织)标准230/2 (1988)或等效的国家标准，沿任何线性轴的定位精度相等于或小于(优于) 4微米； (2004年第65号法律公告)

(2) 具有2个或以上轮廓旋转轴； (2004年第65号法律公告)

(3) 具有5个或以上能同时调整而作“轮廓控制”的轴； (2008年第254号法律公告)

注释：

项目2B201(b)不管制以下磨床： (2017年第42号法律公告)

1. 具有下述所有特性的圆柱形外部、内部及外部——内部磨床：

(a) 最大操作范围的外直径或长度仅限于150毫米；

(b) 只有x、z及c轴；及

2. 没有z-轴或w-轴的工模磨牀，而按照ISO 230/2 (1988)或等效的国家标准，其全程定位精度小于(优于) 4微米。 (2008年第254号法律公告)

注释：

项目2B201(c)不管制具有以下特性的棒料机器(走心式车牀)：

(a) 仅供加工贯穿进给的棒料；

(b) 最大棒料直径不超过42毫米；及

以上描述的棒料机器可具有钻孔或铣削功能，或钻孔及铣削功能，为直径小于42毫米的零件作机器加工。 (2017年第42号法律公告)

注释：

1. 项目2B201不管制限于制造任何以下部分的特别用途工具机：

(a) 齿轮；

(b) 曲轴或凸轮轴；

(d) 挤唧用的螺旋轴。 (2017年第42号法律公告)

2. 具有车削、铣削或磨削三种功能中最少两种的工具机(例如具铣削功能的车削机)，必须依据项目2B201(a)、2B201(b)或2B201(c)记项中每一适用者评估。(2008年第254号法律公告；2017年第42号法律公告)

3. 项目2B201(a)(3)及2B201(b)(3)包括以平行线性运动学设计为基础(例如六足型机器)、具有5个或以上的轴(当中并无旋转轴)的机器。 (2021年第89号法律公告)

(2008年第254号法律公告；2017年第42号法律公告；2023年第85号法律公告)

2B204 以下“均压装置”及相关装备(受项目2B004或2B104管制者除外)： (2006年第95号法律公告)

(a) 具有以下两项特性的“均压装置”：

(1) 最大工作压力可达69兆帕斯卡或以上；及

(2) 具有内直径超过152毫米的腔室；

(b) 为受项目2B204(a)管制的“均压装置”而特别设计的压模、铸模及控制器； (2006年第95号法律公告)

技术注释：

在项目2B204中，腔室内部尺寸乃为可达致工作温度及工作压力的腔室尺寸，而不包括装置。该尺寸为压力室的内直径或隔热炉室的内直径，以两者中较小的值为准，视乎两个腔室中那一个是位于另一个之内而定。 (2001年第132号法律公告)

2B206 以下的量度检查机、仪器或系统，但项目2B006指明者除外： (2006年第95号法律公告；2011年第161号法律公告)

(a) 电脑控制或数值控制的座标测量机(CMM)，而该测量机符合以下任何一项描述：

(1) 只有两条轴，而按照ISO 10360/2 (2009)，在该测量机的操作范围内的任何一点(即在该轴的长度以内)，其长度测量的最大允许误差，沿任何一条轴(一面)并以E_0x,MPE、E_0y,MPE或E_0z,MPE的任何组合作识别，相等于或小于(优于)(1.25 + L/1 000)微米(L为测得的长度，单位为毫米)；

(2) 有3条轴或多于3条轴，而按照ISO 10360/2 (2009)，在该测量机的操作范围内的任何一点(即在该轴的长度以内)，其三维(容量)长度测量的最大允许误差(E_0,MPE)，相等于或小于(优于)(1.7 + L/800)微米(L为测得的长度，单位为毫米)；

技术注释∶

在所有补偿机制下，制造商按照ISO 10360/2 (2009)指明的座标测量机的最准确配置(例如以下最佳的项目：探针、描画针长度、运动参数、环境)的E_0,MPE，须比对(1.7 + L/800)微米的界限。 (2017年第42号法律公告；2023年第85号法律公告)

(b) 供同时检查半球壳的直线及角向尺寸并具有下列两项特性的系统：

(1) 沿任何线性轴的“测量精度误差”每5毫米相等于或小于(优于) 3.5微米；及

(2) “角位置误差”相等于或小于0.02°；

技术注释：

就项目2B206(c)而言，‘直线移’指测量探针与被测量物体之间的距离的改变。

(1) 包含“雷射器”；

(2) 在标准温度及标准压力下，并高于开氏±1度(摄氏±1度)温度范围，维持以下所有项目至少12小时： (2025年第6号法律公告)

(a) 整个测量范围内的‘解析度’为0.1微米或更佳； (2023年第85号法律公告；2025年第6号法律公告)

技术注释：

就项目2B206(c)(2)(a)而言，‘解析度’是量度工具的最小增加量；而在数字仪器上，它是最低有效位。 (2025年第6号法律公告)

(b) “测量精度误差”等于或小于(优于)(0.2 + L/2 000)微米(L为测得的长度，单位为毫米)；

注释：

项目2B206(c)不管制没有闭合或开放环路回馈及包含以雷射器测量工具机、量度检查机或类似装备的滑动误差的测量干涉仪系统。 (2021年第89号法律公告)

(d) 兼具下列两项特性的线性可变差动变压器(LVDT)系统：

技术注释：

就项目2B206(d)而言，‘直线移’指测量探针与被测量物体之间的距离的改变 (2023年第85号法律公告)

(1) 具有以下任何一项特性：

(a) 就操作范围于5毫米或以下的线性可变差动变压器而言，由0至整个操作范围测量时，“线性度”等于或小于(优于)0.1%；

(b) 就操作范围于5毫米以上的线性可变差动变压器而言，由0至5毫米测量时，“线性度”等于或小于(优于)0.1%；

(2) 在标准周围测试室温开氏±1度(摄氏±1度)下，每天的漂移等于或小于(优于)0.1%； (2021年第89号法律公告)

注释：

1. 能用作测量机的工具机如符合或超逾为工具机功能或测量机功能而指明的准则，即受管制。

2. 在项目2B206中指明的机器如在其操作范围内有任何一点超逾管制界限，即受管制。

技术注释：

项目2B206中量值的所有参数代表正╱负数，即并非全带。 (2011年第161号法律公告)

(2004年第65号法律公告)

2B207 以下的“机械人”、“末端效应器”及控制器(受项目2B007管制者除外)： (2006年第95号法律公告)

(a) 特别设计以符合适用于处理烈性炸药的国家安全标准(例如符合烈性炸药的电工规程准则)的“机械人”或“末端效应器”；

(b) 为受项目2B207(a)管制的“机械人”或“末端效应器”而特别设计的控制器； (2001年第132号法律公告；2006年第95号法律公告)

2B209 以下的滚压成型机、能发挥滚压成型功能的旋压成型机(受项目2B009或2B109管制者除外)及心轴： (2006年第95号法律公告)

(a) 具有下列两项特性的机器：

(1) 设有3个或多于3个卷轴(主动或导向)；及

(2) 按照制造商的技术说明，可装设“数值控制”器或电脑控制器； (2004年第65号法律公告)

(b) 设计用于形成内直径在75毫米及650毫米之间的圆柱形转子的转子成形心轴； (2025年第6号法律公告)

注释：

项目2B209(a)包括只有设计以使金属变形的单一卷轴及两个承托心轴但不直接参与变形处理的辅助卷轴的机器。 (2004年第65号法律公告)

2B219 以下的定位或手提、水平或垂直的离心多平面平衡机：

(a) 为平衡挠性转子而设计，长度达600毫米或以上和具有下列所有特性的离心平衡机：

(1) 回转直径或轴颈直径大于75毫米； (2004年第65号法律公告)

(2) 质容量为0.9至23公斤；及

(3) 能平衡旋转速度每分钟超过5 000转数；

(b) 为平衡中空柱转子零件而设计并具有下列所有特性的离心平衡机：

(1) 轴颈直径大于75毫米； (2004年第65号法律公告)

(2) 质容量为0.9至23公斤；

(3) 每面最少可达致相等于或少于每千克10克毫米的剩余特定不平衡 (2023年第85号法律公告)

(4) 皮带转动式； (2001年第132号法律公告)

2B225 以下的在分离放射性化学品的操作中或在热处理室中可以使用以作出遥控动作的遥控操作器 ——

(a) 可穿透厚度达0.6米或以上的热处理室壁(穿壁操作)；

(b) 可跨过厚度达0.6米或以上的热处理室壁顶部(越壁操作)； (2023年第85号法律公告)

技术注释： (2004年第65号法律公告)

遥控操作器提供机械转化人类操作控制给遥控臂及终端夹具，可以是主从式或以操纵杆或键盘操作。

2B226 以下的受控制气压(真空或惰性气)感应电炉(项目3B001及9B001所管制者除外)，以及为其提供电源的电源供应器： (2021年第89号法律公告)

注意：

亦须参阅项目3B001及9B001。 (2021年第89号法律公告)

(a) 具有下列所有特性的电炉：

(1) 能于开氏1 123度(摄氏850度)以上操作；

(2) 设有直径为600毫米或以下的感应线圈；及

(3) 其设计的输入功率为5千瓦或以上；

(b) 为受项目2B226(a)管制的电炉而特别设计而指明输出功率为5千瓦或以上的电源供应器； (2006年第95号法律公告)

注释：

项目2B226(a)不管制为加工处理半导体片而设计的热炉。

(2004年第65号法律公告)

2B227 以下的真空或其他的受控制气压冶金熔化及铸造炉，以及相关装备∶

(a) 具有下列两项特性的弧形再熔化炉、弧形熔化炉及弧形熔化及铸造炉： (2021年第89号法律公告)

(1) 自耗电极容量在1 000立方厘米至20 000立方厘米之间；及

(2) 能于熔点温度超过开氏1 973度(摄氏1 700度)下操作；

(b) 具有下列两项特性的电子束熔炼炉、“等离子原子化”热炉及等离子熔化炉： (2017年第42号法律公告；2021年第89号法律公告)

(1) 功率达50千瓦或以上；及

(2) 能于超过开氏1 473度(摄氏1 200度)的熔点温度下操作；

(d) 为项目2B227(b)所管制的热炉而特别设计的、兼具以下两项特性的等离子火炬：

(1) 以大于50千瓦的功率操作；

(2) 能在开氏1 473度(摄氏1 200度)以上操作； (2021年第89号法律公告)

(e) 为项目2B227(b)所管制的热炉而特别设计的、能以大于50千瓦的功率操作的电子束枪； (2021年第89号法律公告)

(2004年第65号法律公告)

2B228 以下的转子制造或组合装备、转子矫直装备、伸缩囊压成型心轴及压模：

(a) 用于组合气体离心转子管段、遮挡板及尾盖的转子组合装备；

注释：

项目2B228(a)包括精密心轴、钳，以及收缩配合机。

(b) 用于校准气体离心转子管段至共同轴线的转子矫直装备；

技术注释：

在项目2B228(b)中，该等装备在正常情况下包含连接到电脑的精密测量探针，该探针其后控制例如用于校准转子管段的风捣锤的动作。

技术注释：

在项目2B228(c)中，该等伸缩囊具有下列所有特性：

1. 内直径在75毫米至650毫米之间； (2025年第6号法律公告)

2. 长度相等于或大于12.7毫米；

3. 单回旋深度大于2毫米；及

4. 以高强度铝合金、特高强度钢(马氏体时效钢)或高强度“纤维或丝状物料”制造。

(2004年第65号法律公告)

2B230 所有类型能够量度绝对压力并符合以下所有描述的‘压力传感器’： (2017年第42号法律公告)

(a) 其压力感应元件以铝、铝合金、氧化铝(矾土或蓝宝石)、镍、含镍超过60%(以重量计)的镍合金或全面氟化碳氢聚合物制造或保护； (2017年第42号法律公告)

(b) 为密封压力感应元件属必需的密封装置(如有的话)，而该装置与处理媒介直接接触，并以铝、铝合金、氧化铝(矾土或蓝宝石)、镍、含镍超过60% (以重量计)的镍合金或全面氟化碳氢聚合物制造或保护； (2017年第42号法律公告)

(1) 满标度小于13千帕斯卡，及‘精度’优于全程的1%；

(2) 满标度为13千帕斯卡或以上，及在13千帕斯卡测量时，‘精度’优于130帕斯卡； (2017年第42号法律公告；2021年第89号法律公告)

技术注释：

1. 在项目2B230中，‘压力传感器’指将压力测量转换为讯号的装置。

2. 就项目2B230而言，‘精度’包括在环境温度下的非线性、滞阻及重复性。 (2017年第42号法律公告)

2B231 具有下列所有特性的真空泵：

(a) 输入喉尺码相等于或大于380毫米；

(b) 泵速相等于或大于15立方米／秒；及

技术注释：

1. 泵速在量度点以氮气或空气测定。

2. 极真空是在泵的输入口被堵塞的情况下，在泵的输入口位置测定。

(2004年第65号法律公告)

2B232 能将发射物体加速至达1.5公里╱秒或以上的高速枪炮系统(推进剂、气体、线圈、电磁及电热类别，以及其他先进系统)；

注意：

亦须参阅军需物品清单。

(2017年第42号法律公告)

2B233 符合所有以下描述的波纹管密封涡旋压缩机及波纹管密封涡旋真空泵：

注意：

亦须参阅项目2B350(i)。

(a) 入口容积流动速率能达50立方米╱小时或以上；

(b) 能达2：1或以上的压力比；

(1) 铝或铝合金；

(2) 氧化铝；

(3) 不锈钢；

(4) 镍或镍合金；

(5) 磷青铜；

(6) 含氟聚合物；

(2017年第42号法律公告)

2B350 以下的化学制造设施、装备及零件： (2004年第65号法律公告)

(a) 有或无搅拌器的反应锅或反应器，总内(几何)容量超过0.1立方米(100升)及低于20立方米(20 000升)，而所有与加工或内含化学品直接接触的表面均由下列任何物料制造：

注意：

至于预制维修组件，参阅项目2B350(k)。 (2021年第89号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(5) 钽或钽‘合金’；

(6) 钛或钛‘合金’；

(7) 锆或锆‘合金’；

(8) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

(b) 为用于项目2B350(a)指明的反应锅或反应器而设计的搅拌器；以及为该等搅拌器而设计的叶轮、翼或轴，而直接接触所加工或内含的化学品的所有搅拌器表面，均以下列任何物料制造： (2004年第65号法律公告；2006年第95号法律公告；2017年第42号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(5) 钽或钽‘合金’；

(6) 钛或钛‘合金’；

(7) 锆或锆‘合金’；

(8) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

注意：

至于预制维修组件，参阅项目2B350(k)。 (2021年第89号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(5) 钽或钽‘合金’；

(6) 钛或钛‘合金’；

(7) 锆或锆‘合金’；

(8) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

(d) 传热表面面积大于0.15平方米而小于20平方米的换热器或冷凝器；以及为该等换热器或冷凝器而设计的管、板、线圈或块(核芯)，而所有与加工化学品直接接触的表面均由下列任何物料制造： (2004年第65号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 石墨或‘碳石墨’； (2004年第65号法律公告)

(5) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(6) 钽或钽‘合金’；

(7) 钛或钛‘合金’； (2001年第132号法律公告)

(8) 锆或锆‘合金’；

(9) 碳化矽； (2001年第132号法律公告)

(10) 碳化钛； (2001年第132号法律公告)

(11) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

(e) 内直径超过0.1米的蒸馏柱或吸收柱；以及为该等蒸馏柱或吸收柱而设计的液体分发器、蒸气分发器或液体收集器，而所有与加工化学品直接接触的表面均由下列任何物料制造： (2004年第65号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 石墨或‘碳石墨’； (2004年第65号法律公告)

(5) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(6) 钽或钽‘合金’；

(7) 钛或钛‘合金’；

(8) 锆或锆‘合金’；

(9) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

(f) 遥控操作填料装备，其所有与加工化学品直接接触的表面均由下列任何物料制造：

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；或

(2) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(g) 以下的阀及零件：

(1) 符合所有以下描述的阀：

(a) ‘标称大小’大于DN 10或NPS 3/8； (2023年第85号法律公告)

(b) 直接接触所生产、加工或内含的化学品的所有表面，均以‘抗蚀物料’制造；

(2) 符合所有以下描述的阀(项目2B350(g)(1)指明者除外)：

(a) ‘标称大小’相等于或大于DN 25或NPS 1，并且相等于或少于DN 100或NPS 4； (2023年第85号法律公告)

(b) 有壳(阀体)或预制壳衬里；

(d) 壳(阀体)或预制壳衬里的所有表面，而该等直接接触所生产、加工或内含的化学品的所有表面，均以‘抗蚀物料’制造；

(3) 以下为项目2B350(g)(1)或2B350(g)(2)指明的阀而设计的零件，而直接接触所生产、加工或内含的化学品的该等零件的所有表面，均以‘抗蚀物料’制造：

(a) 壳(阀体)；

(b) 预制壳衬里；

技术注释：

1. 就项目2B350(g)而言，‘抗蚀物料’指任何以下物料：

(a) 镍或含镍超过40% (以重量计)的‘合金’；

(b) 含镍超过25% (以重量计)及含铬超过20%(以重量计)的‘合金’；

(d) 玻璃或玻璃衬里(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜)；

(e) 钽或钽合金； (2023年第85号法律公告)

(f) 钛或钛合金； (2023年第85号法律公告)

(g) 锆或锆合金； (2023年第85号法律公告)

(h) 铌(钶)或铌合金； (2023年第85号法律公告)

(i) 以下陶瓷物料：

(1) 纯度达80% (以重量计)或更高的碳化矽；

(2) 纯度达99.9% (以重量计)或更高的氧化铝(矾土)；

(3) 氧化锆。

2. ‘标称大小’界定为入口直径及出口直径中较小的一个。 (2017年第42号法律公告)

3. 阀的标称大小(DN)按照ISO 6708:1995。标称管道大小(NPS)按照ASME B36.10或B36.19或等效的国家标准。 (2023年第85号法律公告)

(h) 多层管道，内有侦测防漏口，而所有与加工化学品直接接触的表面均由下列任何物料制造：

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(3) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(4) 石墨或‘碳石墨’； (2004年第65号法律公告)

(5) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(6) 钽或钽‘合金’；

(7) 钛或钛‘合金’；

(8) 锆或锆‘合金’；

(9) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

(i) 具有制造商所指明最高流量超过0.6立方米／小时的多重密封及全密封泵，或具有制造商所指明最高流量超过5立方米／小时(在标准温度(开氏273度)(摄氏0度)及压力(101.3千帕斯卡)的情况下)的真空泵，但项目2B233指明者除外；以及为该等泵而设计的外壳(泵身)、预制外壳衬里、叶轮、转旋器或泵喷嘴，而直接接触所加工的化学品的所有表面，均以下列任何物料制造： (2004年第65号法律公告；2006年第95号法律公告；2017年第42号法律公告)

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 陶瓷；

(3) 硅铁(高矽铁合金)； (2023年第85号法律公告)

(4) 含氟聚合物(含氟超过35% (以重量计)的聚合物或弹性材料)；

(5) 玻璃(包括玻璃化的或搪瓷的镀膜或玻璃衬里)；

(6) 石墨或‘碳石墨’； (2004年第65号法律公告)

(7) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(8) 钽或钽‘合金’；

(9) 钛或钛‘合金’；

(10) 锆或锆‘合金’；

(11) 铌(钶)或铌‘合金’； (2008年第254号法律公告)

技术注释：

在项目2B350(i)中，密封一词，只指直接接触所加工的化学品的密封装置，或设计用于直接接触所加工的化学品的密封装置，而该等装置能在旋转或往复驱动轴穿过泵身时，提供密封功能。 (2017年第42号法律公告)

(j) 经设计为销毁项目1C350所管制的化学品，具有为其而特别设计的废料供应系统，特殊处理设施，其平均燃室温度超过开氏1 273度(摄氏1 000度)，而所有与产品废料直接接触的废料供应系统表面均由下列任何物料制造或衬里式制造而成的焚化炉：

(1) 含镍比重超过25%及含铬比重超过20%的‘合金’；

(2) 陶瓷；或

(3) 镍或含镍比重超过40%的‘合金’；

(k) 以下的预制维修组件(其与加工化学品直接接触的金属表面由钽或钽合金制造)及为其特别设计的零件：

(1) 设计用于项目2B350(a)指明的玻璃衬里反应锅或反应器的机械附件；或

(2) 设计用于项目2B350(c)指明的玻璃衬里贮存缸、贮存器或容器的机械附件； (2021年第89号法律公告)

注释∶

就项目2B350而言，在决定管制状况时，不以用作垫片、填充、密封装置、螺丝、垫的物料或其他发挥密封功能的物料取决，但前提是该等零件是设计为可互换的。 (2017年第42号法律公告)

技术注释：

1. ‘碳石墨’是由非晶质碳与石墨组成的组合物，当中石墨成分以重量计的比率为8%或以上。

2. 就上述项目中列出的物料而言，‘合金’一词，当并不是伴和着特定的元素浓度，可理解为在该等合金中，其被识别的金属以重量计的比率高于任何其他元素。(2011年第161号法律公告)

(2008年第254号法律公告；2011年第161号法律公告；2017年第42号法律公告)

2B351 以下的有毒气体监察器及监察系统以及其侦测器零件(但项目1A004指明的除外)，以及该等监察器、系统及零件的侦测器、感应设备及可替换感应匣： (2011年第161号法律公告；2021年第89号法律公告；2023年第85号法律公告)

(a) 其设计是供连续操作及用于侦测‘最低侦测限度’低于0.3毫克／立方米的化学战剂或受项目1C350管制的化学品；或 (2004年第65号法律公告；2006年第95号法律公告；2025年第6号法律公告)

(b) 经设计为侦测具有反胆硷酯酵素功能的化合物；

技术注释：

有毒气体监察器或监察系统的‘最低侦测限度’，为当测量空白样本时，需藉以产生以下信号的分析物的最低可侦测浓度：相较有毒气体监察器或监察系统信号的标准偏差大三倍的信号。

在有毒气体监察器或监察系统具有无感应频带或编程零抑制的情况下，‘最低侦测限度’为产生读数所需的最低可侦测浓度。 (2025年第6号法律公告)

2B352 以下的生物制造及处理装备： (2021年第89号法律公告)

(a) 以下的防护设施及相关装备：

(1) 符合《世界卫生组织实验室生物安全手册》(第3版，日内瓦，2004年)指明的P3或P4(BL3、BL4、L3、L4)防护准则的完全防护设施；

(2) 以下为固定安装于项目2B352(a)指明的防护设施而设计的装备：

(a) 双门穿越式消毒高压灭菌器；

(b) 呼吸空气衣净化花洒；

(b) 以下的发酵器及零件：

(1) 总内部体积不小于20升的发酵器，而该发酵器能在不传播喷雾剂的情况下，培养“微生物”，或为生产病毒或毒素而培养活细胞； (2021年第89号法律公告；2023年第85号法律公告)

(2) 为项目2B352(b)(1)指明的发酵器而设计的零件如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 为就地进行消毒或杀菌而设计的培育室；

(b) 培育室保持装置；

技术注释：

1. 就项目2B352(b)而言，发酵器包括生物反应器、单次使用式(即弃式)生物反应器、恒化器及连续流动系统。

2. 培育室保持装置包括具有硬式室壁的单次使用式培育室。 (2023年第85号法律公告)

(1) 流动速率每小时超过100升；

(2) 零件以磨光不锈钢或钛制造；

(3) 防止蒸气散布部分具一层或多于一层密封接缝；及

(4) 在密闭状况能就地进行消毒；

技术注释： (2008年第254号法律公告)

离心分离器包括倾析器。

(d) 以下的交叉(正切)流过滤装备及零件：

(1) 能分离“微生物”、病毒、毒素或细胞培养物的、符合所有以下描述的交叉(正切)流过滤装备： (2017年第42号法律公告；2021年第89号法律公告；2025年第6号法律公告)

(a) 总过滤面积相等于或大于1平方米； (2017年第42号法律公告)

(b) 符合以下任何描述：

(1) 能就地进行‘消毒’或‘杀菌’；

(2) 使用即弃式或单次使用式过滤零件； (2017年第42号法律公告)

技术注释：

在项目2B352(d)(1)(b)中，‘消毒’指藉着使用物理剂(例如蒸气)或化学剂消灭装备的所有活微生物。‘杀菌’指藉着使用化学剂减少微生物(而非通常为病毒孢子)数量的程序，而本身不一定杀死或除去所有微生物。 (2025年第6号法律公告)

(2) 过滤面积以每件零件计相等于或大于0.2平方米，且经设计用于受项目2B352(d)管制的交叉(正切)流过滤装备的交叉(正切)流过滤零件(例如模组、元素、卡式盒、匣子、元件或盘子)；

注释：

项目2B352(d)不管制制造商所指明的逆渗透及血液透析装备。 (2006年第95号法律公告；2021年第89号法律公告)

(e) 可用蒸气、气体或气化物消毒的冷冻干燥装备，其冷凝器能够在24小时内制造10公斤或以上但少于1 000公斤的冰； (2021年第89号法律公告)

(f) 以下的防护装备：

(1) 全身或半身防护服，或依靠系缚式外来空气供应并在正压下操作的防护袍；

注释：

项目2B352(f)(1)不管制在设计上供连同自给式呼吸器具一起穿着的衣服。

(2) 具有以下所有特性以供正常操作的生物感染控制室、隔离器或生物安全箱：

(a) 完全围封的工作空间，设有实体屏障将操作员与作业分隔；

(b) 能在负压下操作；

(d) 工作空间的供气和排气经高效能空气粒子过滤设备过滤；

注释：

1. 项目2B352(f)(2)包括在《世界卫生组织实验室生物安全手册》最新版中所描述的、或按照国家标准、规则或指引建造的第III级生物安全箱。

2. 项目2B352(f)(2)包括任何符合项目2B352(f)(2)(a)至(d)所述的所有特性的隔离器，不论其预定用途及其指定名称为何(为隔离护理或运送受感染病人而特别设计的医疗隔离器除外)。 (2025年第6号法律公告)

3. (由2025年第6号法律公告废除)

(g) 以下为利用“微生物”、病毒或“毒素”进行喷雾剂检查而设计的喷雾剂吸入装备：

(1) 容量为1立方米或以上的全身暴露室；

(2) 利用喷雾剂定向流动的鼻部暴露吸入器具，其容量可供任何以下数目的动物在内暴露：

(a) 12只或以上的齧齿动物；

(b) 2只或以上的非齧齿动物；

(3) 设计供与利用喷雾剂定向流动的鼻部暴露吸入器具并用的封闭式动物束管； (2021年第89号法律公告)

(h) 能烘干毒素或致病“微生物”的、符合所有以下描述的喷雾烘干装备： (2023年第85号法律公告)

(1) 水蒸发量不小于0.4千克╱小时及不超过400千克╱小时；

(2) 能够以现有配件产生典型平均产品粒子大小为不超过10微米的粒子，或能够藉对含雾化喷嘴的喷雾烘干机作最小修改以使之能产生所要求的粒子大小，而产生典型平均产品粒子大小为不超过10微米的粒子；

(3) 能就地进行消毒或杀菌； (2017年第42号法律公告；2023年第85号法律公告)

(i) 局部或完全自动化的核酸组装器及合成器，其设计用作单次产生长度超过1.5千硷基对而误差率小于5%的连续核酸； (2021年第89号法律公告)

(2004年第65号法律公告)

2C 物料

无。

2D 软件

2D001 以下的“软件” (项目2D002指明者除外)：

(a) 为“发展”或“生产”项目2A001或2B001至2B009指明的装备而特别设计或改装的“软件”； (2023年第85号法律公告)

(b) 为“使用”项目2A001(c)、2B001或2B003至2B009指明的装备而特别设计或改装的“软件”；

注释：

项目2D001不管制产生“数值控制”码的部分程式“软件”，而该码是为对不同部分作机器加工而产生的。

(2017年第42号法律公告)

2D002 电子装置的“软件” (即使设于电子装置或系统内)，令该等装置或系统发挥“数值控制”器功能，而且能同时调整4个以上的轴作“轮廓控制”；

注释：

1. 项目2D002不管制为操作没有在类别2指明的项目而特别设计或改装的“软件”。 (2001年第132号法律公告；2004年第65号法律公告；2017年第42号法律公告)

2. 项目2D002不管制项目2B002指明的项目的“软件”。至于项目2B002指明的项目的“软件”，须参阅项目2D001及2D003。 (2004年第65号法律公告；2017年第42号法律公告)

3. 项目2D002不管制与没有在类别2指明的项目一同出口，及为操作没有在类别2指明的项目属最低所需的“软件”。 (2017年第42号法律公告)

2D003 为操作项目2B002指明的装备而设计或改装的“软件”，而该“软件”将光学设计、工件测量及去除物料功能，转化为“数值控制”指令，以达成所需的工件方式；

(2017年第42号法律公告)

2D101 为“使用”受项目2B104、2B105、2B109、2B116、2B117或2B119至2B122管制的装备而特别设计或改装的“软件”； (2006年第95号法律公告)

注意：

亦须参阅项目9D004。

(2004年第65号法律公告)

2D201 为“使用”项目2B204、2B206、2B207、2B209、2B219或2B227所管制的装备而特别设计的“软件”；

(2001年第132号法律公告)

2D202 为“发展”、“生产”或“使用”项目2B201指明的装备而特别设计或改装的“软件”；

注释：

项目2D202不管制符合以下说明的部分程式“软件”：产生“数值控制”指令码，但不容许将装备直接用于对不同部分作机器加工。 (2017年第42号法律公告)

(2017年第42号法律公告)

2D351 为“使用”项目2B351指明的装备而特别设计的“软件”，但项目1D003指明的除外；

(2011年第161号法律公告)

2D352 为项目2B352(i)指明的核酸组装器及合成器而特别设计的“软件”，而该“软件”能够从数位序列资料中设计及构建功能性遗传元素；

(2025年第6号法律公告)

2E 技术

2E001 按照一般技术注释所载，供“发展”项目2A、2B或2D所管制的装备或“软件”的“技术”；

注释：

项目2E001包括将探针系统并入项目2B006(a)指明的坐标测量机(CMM)的“技术”。 (2013年第89号法律公告)

2E002 按照一般技术注释所载，供“生产”项目2A或2B所管制的装备的“技术”；

2E003 以下的其他“技术”：

(a) (由2021年第89号法律公告废除)

(b) 以下的金属加工制造程序“技术”：

(1) 为下列任何程序而特别设计的工具、压模或夹具的设计的“技术”：

(a) “超塑性成形”；

(b) “扩散接合”；或

技术注释：

‘直接作用液压成形’是使用一个与工作件直接接触的充液软囊进行成形的工序。 (2023年第85号法律公告)

(2) (由2023年第85号法律公告废除)

注意：

至于燃气涡轮引擎及零件的金属加工制造程序“技术”，参阅项目9E003及ML22。 (2023年第85号法律公告)

(d) (由2021年第89号法律公告废除)

(e) 将生产区运作先进决策支援专家系统并入“数值控制”器内的综合“软件”的“发展技术”；

(f) 藉下表第1栏所指明及技术注释所界定的程序，将(下表第2栏所指明的)非电子基片应用于(下表第3栏所指明)无机镀膜或无机表面修饰镀膜的“技术”；

注意：

阅读此表时应理解，只有当在第3栏镀成的膜所列的与第2栏‘基片’所列的段落正正相对，某项特定‘镀膜程序’的“技术”才受管制。例如，化学蒸镀(CVD)‘镀膜程序’技术数据是就‘矽化物’在‘碳-碳、陶瓷及金属“基材” “复合物”’基片的应用而受管制，但当‘矽化物’应用在‘瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾’、‘碳化矽⁽¹⁸⁾’基片上则不受管制。在后一个情况，在第3栏镀成的膜所列的并非与第2栏‘基片’所列的‘瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾’、‘碳化矽⁽¹⁸⁾’的段落正正相对。 (2001年第132号法律公告；2008年第254号法律公告；2023年第85号法律公告)

2E101 按照一般技术注释所载，“使用”受项目2B004、2B009、2B104、2B109、2B116、2B119至2B122或2D101管制的装备或“软件”的“技术”；

(2023年第85号法律公告)

2E201 按照一般技术注释所载，“使用”项目2A225、2A226、2B001、2B006、2B007(b)、2B007(c)、2B008、2B009、2B201、2B204、2B206、2B207、2B209、2B225至2B233、2D201或2D202指明的装备的“技术”，或“使用”该等项目指明的“软件”的“技术”；

(2023年第85号法律公告)

2E301 按照一般技术注释“使用”项目2B350至2B352所管制的物品的“技术”；

(2023年第85号法律公告)

表——沉积技术

1. 镀膜程序⁽¹⁾*		2. 基片	3. 镀成的膜
A.	化学蒸镀 (CVD)	“超合金”	用于内部的铝化物
A.	化学蒸镀 (CVD)	陶瓷⁽¹⁹⁾及低膨胀率玻璃⁽¹⁴⁾	矽化物碳化物介电质层⁽¹⁵⁾ 钻石碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾
		碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	矽化物碳化物耐火金属前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾ 铝化物合金铝化物⁽²⁾ 氮化硼
		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾、碳化矽⁽¹⁸⁾	碳化物钨前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾
		钼及钼合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		铍及铍合金	介电质层⁽¹⁵⁾ 钻石碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾


		感测器视窗物料⁽⁹⁾	介电质层⁽¹⁵⁾ 钻石碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾

B.	热蒸发物理蒸镀 (TE-PVD)
	1. 物理蒸镀 (PVD)：电子束 (EB-PVD)	“超合金”	合金矽化物合金铝化物⁽²⁾ MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 矽化物铝化物前述的混合物⁽⁴⁾
		陶瓷⁽¹⁹⁾及低膨胀率玻璃⁽¹⁴⁾	介电质层⁽¹⁵⁾
		耐蚀钢⁽⁷⁾	MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 前述的混合物⁽⁴⁾
		碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	矽化物碳化物耐火金属前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾ 氮化硼


		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾、碳化矽	碳化物钨前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾
		钼及钼合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		铍及铍合金	介电质层⁽¹⁵⁾ 硼化物铍
		感测器视窗物料⁽⁹⁾	介电质层⁽¹⁵⁾
		钛合金⁽¹³⁾	硼化物氮化物



	2. 物理蒸镀 (PVD)∶ 离子辅助电阻加热 (离子镀膜)	陶瓷⁽¹⁹⁾及低膨胀率玻璃⁽¹⁴⁾	介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾
		碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	介电质层⁽¹⁵⁾
		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾、碳化矽⁽¹⁸⁾	介电质层⁽¹⁵⁾
		钼及钼合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		铍及铍合金	介电质层⁽¹⁵⁾





		感测器视窗物料⁽⁹⁾	介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾

	3. 物理蒸镀 (PVD)： “雷射器” 蒸发	陶瓷⁽¹⁹⁾及低膨胀率玻璃⁽¹⁴⁾	矽化物介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾
	3. 物理蒸镀 (PVD)： “雷射器” 蒸发	碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	介电质层⁽¹⁵⁾
		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾、碳化矽⁽¹⁸⁾	介电质层⁽¹⁵⁾
		钼及钼合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		铍及铍合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		感测器视窗物料⁽⁹⁾	介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾






	4. 物理蒸镀 (PVD)：阴极电弧放电	“超合金”	合金矽化物合金铝化物⁽²⁾ MCrAlX⁽⁵⁾
	4. 物理蒸镀 (PVD)：阴极电弧放电	聚合物⁽¹¹⁾涉及有机 “基材” “复合物”	硼化物碳化物氮化物碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾


C.	封装结合(关于非封装结合，参阅以上A项)⁽¹⁰⁾	碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	矽化物碳化物前述的混合物⁽⁴⁾
		钛合金⁽¹³⁾	矽化物铝化物合金铝化物⁽²⁾
		耐火金属及合金⁽⁸⁾	矽化物氧化物


D.	等离子体熔射	“超合金”	MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 前述的混合物⁽⁴⁾ 可磨镍-石墨含Ni-Cr-Al的可磨物料可磨铝-矽多元酮合金铝化物⁽²⁾
		铝合金⁽⁶⁾	MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 矽化物前述的混合物⁽⁴⁾
		耐火金属及合金⁽⁸⁾	铝化物矽化物碳化物



		耐蚀钢⁽⁷⁾	MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 前述的混合物⁽⁴⁾
		钛合金⁽¹³⁾	碳化物铝化物矽化物合金铝化物⁽²⁾ 可磨镍-石墨含Ni-Cr-Al的可磨物料可磨铝-矽多元酮



E.	泥浆沉积	耐火金属及合金⁽⁸⁾	熔融矽化物熔融铝化物，但电阻加热体除外
		碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	矽化物碳化物前述的混合物⁽⁴⁾




F.	溅镀沉积	“超合金”	合金矽化物合金铝化物⁽²⁾ 改良贵重金属铝化物⁽³⁾ MCrAlX⁽⁵⁾ 改良氧化锆⁽¹²⁾ 铂前述的混合物⁽⁴⁾
		陶瓷⁽¹⁹⁾及低膨胀率玻璃⁽¹⁴⁾	矽化物铂前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾
		钛合金⁽¹³⁾	硼化物氮化物氧化物矽化物铝化物合金铝化物⁽²⁾ 碳化物
		碳-碳、陶瓷及金属 “基材” “复合物”	矽化物碳化物耐火金属前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾ 氮化硼




		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾、碳化矽⁽¹⁸⁾	碳化物钨前述的混合物⁽⁴⁾ 介电质层⁽¹⁵⁾ 氮化硼
		钼及钼合金	介电质层⁽¹⁵⁾
		铍及铍合金	硼化物介电质层⁽¹⁵⁾ 铍
		感测器视窗物料⁽⁹⁾	介电质层⁽¹⁵⁾ 碳(像钻石的)⁽¹⁷⁾
		耐火金属及合金⁽⁸⁾	铝化物矽化物氧化物碳化物


G.	离子植入	高温轴承钢	添加铬、钽或铌(钶)
		钛合金⁽¹³⁾	硼化物氮化物
		铍及铍合金	硼化物
		瓷金碳化钨⁽¹⁶⁾	碳化物氮化物
(2001年第132号法律公告；2008年第254号法律公告)

* 括号内的数字是提述本表之后的注释。

物料加工程序表——注释

1. ‘镀膜程序’一词包括镀膜的修理和更新，以及原始镀膜。

2. ‘合金铝化物镀膜’一词包括单一阶段或多阶段镀膜；是于镀上铝化物之时或之前，再更沉积一种或多种材料，这些材料亦可以其他镀膜程序镀上。但本程序不包括多次使用单阶段封装结合程序，以获得合金铝化物者。 (2023年第85号法律公告)

3. ‘改良贵重金属铝化物’镀膜一词包括多阶段镀膜，在进行铝化物镀膜之前以其他镀膜程序镀上一种或多种贵重金属。

4. ‘前述的混合物’一词包括渗透物料、渐变成分、多元素间时沉积及多层沉积，并可采用表中指明的一种或多于一种镀膜程序取得。

5. ‘MCrAlX’是指镀膜合金，而M代表钴、铁、镍或其组合，X代表任何数量的铪、钇、矽、钽，或其他重量比率逾0.01、具各种比例及组成之特意添加物，但下述的除外：

(a) 含铬重量百分比低于22，含铝重量百分比低于7及含钇重量百分比低于2的CoCrAlY镀膜；

(b) 含铬重量百分比为22至24，含铝重量百分比为10至12及含钇重量百分比为0.5至0.7的CoCrAlY镀膜；或

6. ‘铝合金’一词指在开氏293度(摄氏20度)测量极限抗拉强度为190兆帕斯卡或以上的合金。

7. ‘耐蚀钢’一词指AISI(美国钢铁学会)300系列或等效的国家标准的钢材。

8. ‘耐火金属及合金’包括下列金属及其合金：铌(钶)、钼、钨及钽。

9. 以下的‘感测器视窗物料’：铝、矽、锗、硫化锌、硒化锌、砷化镓、钻石、磷化镓、蓝宝石，以及下列卤化金属：直径超过40毫米的氟化锆及氟化铪感测器视窗物料。

10. 不受类别2管制的实心机翼单阶段封装结合的“技术”。

11. 以下的‘聚合物’：聚醚亚胺、聚酯、聚硫化物、聚碳酸酮及聚胺基甲酸乙酯。

12. ‘改良氧化锆’指在氧化锆内添加其他金属氧化物，例如氧化钙、氧化镁、氧化钇、氧化铪、稀土族氧化物等，以稳定某些结晶相及相组成。以氧化锆所制且藉混合或融合氧化钙或氧化镁改良的隔热镀膜，不受管制。

13. ‘钛合金’指在开氏293度(摄氏20度)测量极限抗拉强度在900兆帕斯卡或以上的航天合金。

14. ‘低膨胀率玻璃’指在开氏293度(摄氏20度)测量的热膨胀系数为1×10^-7K^-1或以下的玻璃。

15. ‘介电质层’为多层绝缘物料所构成的镀膜，是利用具不同折射率物料所构成的干涉特性反射、透射或吸收不同频率的波段。介电质层系指4层以上的介电质层或介电质／金属“复合物”层。

16. ‘瓷金碳化钨’不包括由碳化钨／(钴、镍)、碳化钛／(钴、镍)、碳化铬／镍-铬及碳化铬／镍所构成的切割及成形工具物料。

17. 在下列任何一项物料上沉积类钻碳的“技术”并不包括在内： (2023年第85号法律公告)

磁碟驱动器及磁头、制造用完即弃物品的装备、水龙头的阀、扬声器的声膜、汽车的引擎零件、切割工具、穿孔-加压压模、办公室自动化设备、微音器或医疗装置；或供铸制或铸造塑胶并由含有少于5%的铍的合金制造的铸模。 (2004年第65号法律公告)

18. ‘碳化矽’不包括切割及成形工具物料。

19. 本项目中所指的陶瓷基片不包括具5%(重量比率)或以上黏土或水泥含量(不论属独立成分或组合形式)的陶瓷物料。

(2001年第132号法律公告)

表——沉积技术——技术注释

表内第1栏所指明的程序界定如下：

(a) 化学蒸镀(CVD)是将金属、合金、“复合物”、介电质或陶瓷沉积于加热基片上的镀膜或表面改良的镀膜程序。气态反应物在基片邻近分解或结合，使所需的元素、合金或化合物沉积于基片上。此分解或化学反应程序所需的能量可由基片的热、光晕放电等离子体或“雷射器”照射所提供。

注意：

1. CVD包括下列程序：直接气流无封装沉积、脉冲式CVD、控制成核热分解(CNTD)、等离子体增强或等离子体辅助CVD制程。

2. 封装指基片浸于混合物粉末内。

3. 用于无封装程序的气态反应物是以如同封装结合程序的基本反应及参数产生，但待镀的基片则未与混合物粉末接触的。

(b) 热蒸发-物理蒸镀(TE-PVD)是于压力低于0.1帕斯卡的真空内进行的镀膜程序，并使用热能源蒸发镀膜物料。本程序的结果是蒸发材料凝结或沉积于正确定位的基片上。

在该镀膜过程中，于真空室内加入气体以合成化合物镀膜，是该程序的一项一般的改良。

使用离子或电子束或等离子体，以启动或促进镀膜的沉积亦是本技巧的常见的改良。这些程序皆可利用监控器，对镀膜的光学特性及厚度作程序中的测量。

特定的TE-PVD程序如下：

(1) 电子束PVD使用电子束加热及蒸发形成镀膜的物料；

(2) 离子辅助电阻加热PVD使用电阻加热源结合冲击离子束以产生受控制而均匀的蒸发镀膜物质流；

(3) “雷射器”蒸发使用脉冲波或连续波“雷射器”光束，以蒸发形成镀膜的物料；

(4) 阴极电弧沉积使用由形成镀膜的物料制造的消耗式阴极，再藉接地开关的短暂接触，在表面形成电弧放电，受控的电弧移动侵蚀阴极表面，产生高度离子化的等离子体，阳极可为透过绝缘器或真空室连接于阴极周边的圆锥。非视线沉积则利用基片偏压进行；

注意：

本定义不包括利用非偏压基片的随意阴极电弧沉积。

(5) 离子镀膜为一般TE-PVD程序的特殊改良；是利用等离子体或离子源游离镀膜材料，再对基片施予负偏压，以便由等离子体中抽取出镀膜成分。本程序的一般变化包括引入反应物、在反应室内蒸发固体和使用监控器，以及对镀膜的光学特性及厚度作程序中的测量。

(1) 欲镀的金属粉末(通常为铝、铬、矽或其组合)；

(2) 诱发剂(通常为卤化物盐类)；及

(3) 惰性粉末，最常用的是氧化铝。

基片及混合物粉末是载于加热达开氏1 030度(摄氏757度)至开氏1 375度(摄氏1 102度)之间的蒸馏器内，以便有充分时间供镀膜沉积。

(d) 等离子体熔射镀膜程序使用等离子体熔射是一项镀膜制程，其熔射枪(熔射火炬)可产生和控制的等离子体将粉末或线状镀膜物料融化并推向基片，形成整体结合的镀膜。等离子体熔射由低压等离子体熔射或高速电浆熔射构成。

注意：

1. 低压指低于周围大气压。

2. 高速指在开氏293度(摄氏20度)及0.1兆帕斯卡下的喷口气体速度超过750米／秒。

(e) 泥浆沉积为一表面调质或镀膜程序，是将金属或陶瓷粉末以有机结合剂结合，悬挂于液体中，以喷洒、浸入或涂抹方式施加于基片上，再置于空气或炉中干燥，并以热处理取得所需之镀膜。

(f) 溅镀沉积为依据动量转移现象的镀膜程序，是以电场将正离子朝靶(镀膜物料)的表面加速。入射离子的动能足以使靶面原子释出及沉积于正确定位的基片上。

注意：

1. 本表只指用以增加镀膜的黏附性及沉积率的三极、磁或反应式溅镀沉积及可供蒸发非金属镀膜物料的射频(RF)溅镀沉积。

2. 低能量离子束(低于5千电子伏)能用以诱发沉积。

(g) 离子植入为表面调质镀膜程序，是将合金成分游离，并经电位梯度加速植入于基片表面区域。这亦包括与电子束物理蒸镀或溅镀沉积同时进行的离子植入的程序。

(2001年第132号法律公告)

表——沉积技术——理解陈述

附随沉积技术表的下述技术资料被理解为于适当情况下使用。

1. 预先处理表中列示的基片的技术资料如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 以化学方法剥离及清洁浴槽的循环参数如下：

(1) 浴槽成分：

(a) 为移除陈旧及有瑕疵的镀膜、腐蚀物或外来沉积物；

(b) 为原基片作准备；

(2) 在浴槽中的时间；

(3) 浴槽温度；

(4) 清洗的循环次数及次序；

(b) 接收已清洁部分的目视及宏观标准； (2008年第254号法律公告)

(1) 雾气参数如下：

(a) 雾气成分；

(b) 雾气压力；

(2) 热处理的温度；

(3) 热处理的时间；

(d) 基片表面的预备参数如下：

(1) 喷砂清理的参数如下：

(a) 喷砂成分；

(b) 喷砂尺码及形状；

(2) 喷砂后清洁的循环时间及次序；

(3) 表面光洁度的参数；

(4) 使用促进黏附力的接着材料； (2021年第89号法律公告)

(e) 屏蔽技术的参数如下：

(1) 屏蔽的材料；

(2) 屏蔽的位置。

2. 为评价表中列示的镀膜程序的有关现场质素保证技术的技术资料如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 雾气参数如下：

(1) 雾气成分；

(2) 雾气压力；

(b) 时间参数；

(d) 厚度参数；

(e) 折射率参数；

(f) 成分控制。

3. 于沉积后处理表中列示的已镀膜基片的技术资料如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 喷丸硬化的参数如下：

(1) 喷丸成分；

(2) 喷丸尺码；

(3) 喷丸速度；

(b) 喷丸硬化后清洁的参数；

(1) 雾气的参数如下：

(a) 雾气成分；

(b) 雾气压力；

(2) 时间－温度循环；

(d) 热处理后接收已镀膜基片的目视及宏观标准。

4. 为评价表中列示的已镀膜基片的有关质素保证技术的技术资料如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 统计取样的标准；

(b) 有关下列各项的微观标准：

(1) 放大倍数；

(2) 镀膜厚度的均匀程度；

(3) 镀膜的完整性；

(4) 镀膜成分；

(5) 镀膜及基片的紧密度；

(6) 微观结构的均匀程度；

(1) 反射；

(2) 透射；

(3) 吸光；

(4) 散射。

5. 有关表中列示的个别的镀膜及表面改良程序的技术资料参数如下： (2023年第85号法律公告)

(a) 化学蒸镀：

(1) 镀膜原料的成分及形成；

(2) 载气成分；

(3) 基片温度；

(4) 时间－温度－压力循环；

(5) 气体的控制及要素的操控；

(b) 热蒸发——物理蒸镀：

(1) 锭及镀膜物料的成分；

(2) 基片温度；

(3) 活性气体的成分；

(4) 锭的馈送率或物料蒸发率；

(5) 时间－温度－压力循环；

(6) 电子束及要素的操控；

(7) “雷射器”的参数如下：

(a) 波长；

(b) 能量密度；

(d) 重复率；

(e) 原料；

(f) (由2021年第89号法律公告废除)

(1) 封装的成分及形成；

(2) 载气成分；

(3) 时间－温度－压力循环；

(d) 等离子体熔射：

(1) 粉末的成分、准备及粒度分布；

(2) 馈送气体的成分及参数；

(3) 基片温度；

(4) 熔射枪的能量参数；

(5) 熔射距离；

(6) 熔射角度；

(7) 复盖气体的成分、压力及流动率；

(8) 熔射枪的控制及要素的操控；

(e) 溅镀沉积：

(1) 朝靶的成分及组构；

(2) 要素及朝靶的几何位置；

(3) 活性气体的成分；

(4) 电偏压；

(5) 时间－温度－压力循环；

(6) 三极的能量；

(7) 要素的操控；

(f) 离子植入：

(1) 电子束的控制及要素的操控；

(2) 离子源的设计详情；

(3) 离子束的控制技术及沉积率的参数；

(4) 时间－温度－压力循环；

(g) 离子镀膜：

(1) 电子束的控制及要素的操控；

(2) 离子源的设计详情；

(3) 离子束的控制技术及沉积率的参数；

(4) 时间－温度－压力循环；

(5) 镀膜物料的馈送率及蒸发率；

(6) 基片温度；

(7) 基片偏压的参数。

(1999年第183号法律公告)

(2023年第85号法律公告)